产品介绍： GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在200mm以下晶圆面积上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了纳米压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL8 CLIV Gen2纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的研发和量产。

产品介绍： GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线，它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻全套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10:1*）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及纳米压印的模块数量，达到最优的生产效率。设备支持全自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和自动对位、自动压印、自动脱模，全部工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。